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半导体级溅射光学镀膜设备采用模块化设计，可结合等离子清洗单元，磁控溅射单元，高精密蒸发镀膜单元、等离子增强化学反应单元，原子层沉积单元，以及等离子化学反应刻蚀单元，拓展成涵盖基材清洗、薄膜沉积和图案化刻蚀整套工序的簇式微纳米结构加工中心。