磁控溅射阴极
磁控溅射技术在光伏制造、ITO触屏、LOW-E、光学、半导体等各行业有广泛应用。溅射阴极一般为矩形平面和旋转圆柱结构，各有不同应用优势，在不同激励电源的驱动下，可以单靶、双靶使用，在多层复合膜的工艺情况，选用多靶组合使用。
JUMO磁控溅射阴极全部自主研发设计制造，集成国际技术升级国产化，特点如下：- •磁流体真空旋转密封,长寿命低漏率
- •长寿命的陶瓷旋转水密封装置
- •非真空环境下的双向推力轴承,任意角度安装
- •航空级大电流高耐磨贵金属电刷
- •大流量循环冷却水设计，冷却可靠
- •无需维护的全密封防水磁路结构
- •电机驱动绝缘齿轮驱动，维护简便
- •对水温、水流、传动实时监测和故障报警
- •对靶材寿命和阴极异常工作进行监控和记录
- •触屏显示参数和PLC控制,可进行本地和远程控制
- •可集成工艺气体控制系统和靶电压监测系统
