集成控制系统
集成控制系统主要涵盖光控系统、晶控系统、工艺气体监控系统和工艺气压自动调整系统：
光控系统可用于电子束蒸发、磁控溅射和离子束溅射等多种光学镀膜设备应用中，检测膜层光学厚度：
- •用于高精密光学复杂多层膜系镀膜工艺中
- •镀膜过程中实时数据监控，在线优化修正光学设计
- •集成在镀膜设备控制系统中，完成在线检测和判停
- •高精度的光谱分辨率，特定波长和宽光谱监控方式可选
- •多种监控方式，静片与动片可选，反射与透射可选
- •全方位应用，伞形与鼓形均适用
晶控系统利用石英晶体的压电效应，测量石英晶体振动频率或周期随石英晶片厚度的变化量，达到测量沉积在石英晶片上的膜层厚度的目的
- 装置简单，直观测量，适合于各类金属、合金、化合物、介质膜等
- 信号容易判读，随着膜厚的增加，频率线性地下降，与薄膜是否透明无关
- 可以在线记录成膜速率，累积膜厚，适于自动控制
工艺气体监控系统Speedflo可以精准地控制反应气体量，使得靶材表面不至于覆盖很厚的氧化物，以此来改善或提高沉积速率。长期保持溅射处于过渡态（界于过氧态态和金属态），所以大大地提高了反应溅射的沉积速率了。
在反应溅射工艺中，集成该系统可大大提高生产效率同时保持稳定的工艺状态。
工艺气压自动调整APC系统能够实现工艺压力的稳定控制，在预设工艺气体流量和预设工艺压力后，该系统通过PID自动调节抽气系统流量以满足恒定的工艺压力条件，在线自动匹配，可集成在控制系统中完成灵活的工艺设定。