阳极层离子源
阳极层离子源应用广泛，在各种镀膜系统中均均有应用，其主要功能：
1、基片清洗：清洗基片表面污染物、基材表面活化增加膜基结合力、减少基底缺陷、增加基片表面能、携氧量等。
2、辅助沉积：对工作气体进行离化，作为磁控溅射过程中的离子辅助沉积，同时提高膜层粒子在表面的迁移、扩散能力，有利于形成凝聚力更高的致密的膜层组织。
3、离化沉积：在一些特别的场合可以直接沉积DLC和光学膜、氧化物、氮化物等。
- • 散束和聚束可选设计，满足不同工艺应用
- • 工作压力范围宽，辅助沉积条件不限
阳极层离子源应用广泛，在各种镀膜系统中均均有应用，其主要功能：
1、基片清洗：清洗基片表面污染物、基材表面活化增加膜基结合力、减少基底缺陷、增加基片表面能、携氧量等。
2、辅助沉积：对工作气体进行离化，作为磁控溅射过程中的离子辅助沉积，同时提高膜层粒子在表面的迁移、扩散能力，有利于形成凝聚力更高的致密的膜层组织。
3、离化沉积：在一些特别的场合可以直接沉积DLC和光学膜、氧化物、氮化物等。
