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该设备非常适用于2D大面积产品，手机背盖复合膜片、玻璃背盖、装饰面板等产品颜色膜的量产。设备全自动控制，操作简单，产能高性能稳定，极具竞争优势。 采用反应磁控溅射工艺，配备多组中频驱动的矩形平面或旋转圆柱磁控溅射阴极，实现高、低折射率材料和过渡材料的间歇式沉积，膜层致密度高、性能稳定，基片载台为滚筒公转结构，装载量大且兼容性强。

选装辅助配置，包括阳极层、DC pulse。

选装监控系统，光控与晶控。