物理气相沉积法（Physical Vapor Deposition），简称为PVD技术，是由三个基本方法，即真空蒸镀、离子镀和溅射法组成，由这些基本方法又派生出了各种改进的方法。应当指出的是，近年来的PVD技术中引入了反应气体，使物质迁移过程中还伴随着化合物的形成，所以PVD法已井非是一种单纯的物理真空镀膜过程。
PVD技术的分类可以通过其基本类型以及改进的方法来进行区分：
1、真空蒸镀（通过热能来蒸发和活化原子）改进的方法包括：一般的蒸镀、反应性蒸镀、电场蒸镀、电子束蒸镀、激光蒸镀、闪光蒸镀、气体散射蒸发镀膜等。
2、离子镀（通过电子束蒸发．用等离子体或高频电磁场等来活化原子）改进的方法包括：一般的离子镀、反应性离子镀、低压离子镀、低压反应性离子镀、空心阴极离子镀、反应性空心阴极离子镀、活性反应离子镀、高频离子镀膜等。
3、溅射（通过等离子体溅射和活化原子）改进的方法包括：一般的溅射、反应性溅射、高频溅射、反应性高频溅射、磁控溅射、离子束溅射镀膜等。
