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等离子辅助化学气相沉积（PECVD）方法利用高能等离子在真空中轰击所通入的聚合单体，并使其活化聚合，生成高分子薄膜。PECVD制备有机高分子薄膜具有沉积速率高、薄膜致密等特点。可选配中频与视频电源。

应用场景：表面亲疏水改性；表面阻隔防护；表面生物相容改性。