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整机设备

多室RF-ICP后氧化磁控溅射光学产线

这是一款兼容性强大的多功能产线,采用独特的设计理念,满足镀膜工艺室长期保持真空状态,进出料室单独集成离子源清洗和在线AF装置,可以满足多层功能膜+AF多室连续式镀膜要求,产品稳定性和重复性优异,采取整鼓平移连续的方式,极大提高生产效率,适用于大批量精密光学薄膜产品,超硬AR膜、滤光片、人脸识别、高反膜、截止膜等。

该设备结合磁控溅射和ICP等离子辅助技术,实现了高性能多层膜的大批量连续生产,应用领域广泛,发展潜力巨大。

选装辅助配置,包括阳极层、DC pulse、AF。
选装监控系统,光控与晶控。