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引发式化学气相沉积（iCVD）方法是一种绿色新型的功能高分子薄膜制备方法。iCVD方法结合传统的液相自由基聚合反应与化学气相沉积技术，在较低加热温度下诱导引发剂裂解，使单体聚合成高分子薄膜沉积于基底上。与传统液相薄膜制备过程相比，iCVD法制得薄膜致密均匀、厚度可控，且适用于几乎任何材质的基底。

应用场景：表面亲水、疏水、疏油、及超疏水改性；抗菌薄膜、抗生物吸附、生物相容性薄膜；刺激响应薄膜；气体、液体阻隔与封装薄膜；绝缘与低介电常数薄膜。